拋光是物質(zhì)(如氧、硫、硬脂酸等)的化學(xué)作用出現(xiàn)化學(xué)改變進(jìn)程.當(dāng)工件表面物質(zhì)在化學(xué)作用下,很快構(gòu)成了一層化合物薄膜,這層薄膜具有化學(xué)維護(hù)作用(表面薄膜一旦構(gòu)成,很難再深化),但能被軟質(zhì)磨料除掉.這給拋光加工發(fā)明晰的太條件.因此,這種說(shuō)規(guī)律認(rèn)為磁力研磨機(jī)拋光進(jìn)程,是被拋光表面高凸部位構(gòu)成的化合物薄膜不斷被除掉又很快構(gòu)成的進(jìn)程.并認(rèn)為被拋光表面沒(méi)有收到任何切削損壞作用.

    按照這種說(shuō)法,被拋光表面粗糙不平度峰值,應(yīng)相當(dāng)于薄膜的厚度.但這與實(shí)習(xí)不符,因氧化膜厚度為14?,構(gòu)成的化合物薄膜約為20?——70?(1?=10?微米,20?——70?為0.002微米——0.07微米),而被拋光表面的粗糙不平峰度值則大大超越它.其他,通過(guò)顯微分析標(biāo)明,經(jīng)磁力研磨機(jī)拋光或研磨的表面層約有微米的損壞層.這說(shuō)明拋光或研磨不僅僅是磨料去掉化合薄膜的不斷構(gòu)成進(jìn)程,并且對(duì)表面層有切削作用,而化學(xué)作用則加馬上拋光和研磨進(jìn)程,并且對(duì)表面層有切削作用,而化學(xué)作用則加馬上拋光和研磨進(jìn)程.顯著,純化學(xué)作用說(shuō)法也不悉數(shù).

    綜上所述,研磨和拋光進(jìn)程不可能由一種說(shuō)法能說(shuō)明通,事實(shí)上,磁力研磨機(jī)研磨是磨粒對(duì)工件表面的切削、物質(zhì)的化學(xué)作用及工件表面揉捏變形等概括作用的成果.其每一作用的主次,則要根據(jù)加工性質(zhì),加工進(jìn)程的發(fā)展階段而有所不同.對(duì)于研磨,特別是嵌砂研磨,它符合純切削說(shuō)法,并能正確地教導(dǎo)研磨的實(shí)習(xí)作業(yè).而對(duì)于拋光,它符合化學(xué)作用說(shuō)法和純切削說(shuō)法兩者的概括作用,其間以化學(xué)作用為首要影響,其他像磨粒的切削、溫升的改變等,則化學(xué)作用的加重,起著輔助作用.